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四(二甲氨基)铪 Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH
CasNo:19782-68-4 MDL:MFCD01862473 分子式:C16H48Hf2N8 分子量:354.7900
| 品牌 | 货号 | 包装单位 | 库存 | 产品描述 | 质量规格 | 平台价格（￥） | 购买 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 小辣椒 | a00012 | 1g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH四(二甲氨基)铪 | 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) | 1143.64 00 |  |
| 小辣椒 | a00012 | 1g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH四(二甲氨基)铪 | 1258.00 00 | | |
| strem | 72-8000 | 1g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH, PURATREM | 1350.00 1147.51147.5 | | |
| 小辣椒 | a00012 | 5g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH四(二甲氨基)铪 | 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) | 2979.09 00 | |
| 小辣椒 | a00012 | 5g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH四(二甲氨基)铪 | 3277.00 00 | | |
| strem | 72-8000 | 5g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH, PURATREM | 3510.00 2983.52983.5 | | |
| 小辣椒 | a00012 | 25g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH四(二甲氨基)铪 | 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) | 8910.91 00 | |
| 小辣椒 | a00012 | 25g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH四(二甲氨基)铪 | 9802.00 00 | | |
| strem | 72-8000 | 25g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH, PURATREM | 10530.00 8950.58950.5 | | |
| ALDRICH | 455199-25G | 25G | 0 | Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV)四(二甲胺基)铪(IV) | >=99.99% | 11542.05 10387.8510387.845 | |
| strem | 98-4021 | 25g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2%-Zr) TDMAH, PURATREM, 72-8000, contained in 50 ml Swagelok® cylinder (96-1070) for CVD/ALD | 19155.00 16281.7516281.75 | | |
| strem | 98-4022 | 25g | 0 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2%-Zr) TDMAH, PURATREM, 72-8000, contained in 50ml Swagelok® cylinder (96-1071) for CVD/ALD | 22155.00 18831.7518831.75 | | |
| ALDRICH | 666610-25G | 25G | 0 | Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV)四(二甲胺基)铪(IV) | packaged for use in deposition systems, >=99.99% trace metals basis | 24008.40 21607.5621607.56 | |
